코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 20 x 10 x 5,
코어 유형: EFD, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): EFD 20 x 10 x 7,
코어 유형: PQ, 공차: ±25%, 갭: 3F46, 초기 투자율 (µi): PQ 32 x 25,
코어 유형: ROD, 유효 투과성 (µe): 4.00mm, 초기 투자율 (µi): ROD 4 x 15,
코어 유형: ER, 갭: 3C94, 초기 투자율 (µi): ER 42 x 22 x 16,
코어 유형: P, 공차: ±25%, 갭: 3F36, 유효 투과성 (µe): 11.10mm, 초기 투자율 (µi): P 11 x 7,
코어 유형: UR, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): UR 48 x 39 x 17,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
코어 유형: Toroid, 공차: ±30%, 유효 투과성 (µe): 22.35mm, 초기 투자율 (µi): TX 22 x 14 x 6.4,
코어 유형: E, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): E 42 x 33 x 20,
코어 유형: U, 갭: 3C94, 초기 투자율 (µi): U 10 x 8 x 3,
코어 유형: P, 인덕턴스 계수 (Al): 8.2µH, 공차: ±25%, 갭: 3C90, 유효 투과성 (µe): 36.20mm, 초기 투자율 (µi): P 36 x 22,
코어 유형: RM, 공차: ±25%, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): RM 10,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 250nH, 공차: ±3%, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): RM 10 x 1,
코어 유형: E, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): PLT 14 x 5 x 1.5,
코어 유형: EFD, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): EFD 25 x 13 x 9,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 71 x 33 x 32,
코어 유형: E, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
코어 유형: E, 갭: 3C97, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 42 x 21 x 20,
코어 유형: ETD, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): ETD 54 x 28 x 19,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 400nH, 공차: ±3%, 갭: 3F46, 초기 투자율 (µi): RM 8,
코어 유형: E, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): E 16 x 12 x 5,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 55 x 28 x 25,
코어 유형: PQ, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): PQ 35 x 35,
코어 유형: E, 갭: 3F4, 초기 투자율 (µi): E 58 x 11 x 38,
코어 유형: E, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): E 20 x 10 x 6,
코어 유형: E, 초기 투자율 (µi): E 22 x 6 x 16,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 13 x 6 x 6,
코어 유형: ROD, 갭: 3C90, 유효 투과성 (µe): 6.00mm, 초기 투자율 (µi): ROD 6 x 40,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 250nH, 공차: ±3%, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): RM 12,
코어 유형: ETD, 갭: 3C97, 초기 투자율 (µi): ETD 44 x 22 x 15,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 20 x 10 x 6,
