코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
코어 유형: PLT, 갭: 3C97, 초기 투자율 (µi): PLT 58 x 38 x 4,
코어 유형: E, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): E 22 x 6 x 16,
코어 유형: E, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): E 64 x 10 x 50,
코어 유형: E, 갭: 3F4, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 14 x 3.5 x 5,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 30 x 15 x 7,
코어 유형: PLT, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): PLT 14 x 5 x 1.5,
코어 유형: E, 갭: 3F46, 초기 투자율 (µi): E 18 x 4 x 10,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 400nH, 공차: ±3%, 갭: 3F4, 초기 투자율 (µi): RM 10 x 1,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 19 x 8 x 9,
코어 유형: P, 공차: ±25%, 갭: 3F36, 유효 투과성 (µe): 30.00mm, 초기 투자율 (µi): P 30 x 19,
코어 유형: PQ, 공차: ±25%, 갭: 3C94, 초기 투자율 (µi): PQ 32 x 15,
코어 유형: PLT, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): PLT 18 x 10 x 2,
코어 유형: E, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
코어 유형: ER, 인덕턴스 계수 (Al): 100nH, 공차: ±5%, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): ER 9.5 x 2.5 x 5,
코어 유형: EFD, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): EFD 20 x 10 x 7,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 47 x 20 x 16,
코어 유형: PQ, 공차: ±25%, 갭: 3F4, 초기 투자율 (µi): PQ 50 x 35,
코어 유형: E, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): E 18 x 4 x 10,
코어 유형: RM, 공차: ±25%, 갭: 3F46, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 55 x 28 x 21,
코어 유형: E, 갭: 3C94, 초기 투자율 (µi): E 30 x 15 x 7,
코어 유형: ETD, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): ETD 29 x 16 x 10,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 16 x 12 x 5,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 55 x 28 x 21,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 43 x 10 x 28,
코어 유형: ER, 인덕턴스 계수 (Al): 100nH, 공차: ±4%, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): ER 11 x 2.5 x 6,
코어 유형: EP, 공차: ±25%, 갭: 3C91, 초기 투자율 (µi): EP 7,
코어 유형: E, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): E 22 x 6 x 16,
코어 유형: EFD, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): EFD 25 x 13 x 9,
코어 유형: E, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): E 58 x 11 x 38,
코어 유형: PLT, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): PLT 30 x 20 x 3,
코어 유형: PLT, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): PLT 22 x 16 x 2.5,
