코어 유형: Toroid, 공차: ±30%, 유효 투과성 (µe): 22.35mm, 초기 투자율 (µi): TX 22 x 14 x 13,
코어 유형: PLT, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): PLT 18 x 10 x 2,
코어 유형: P, 공차: ±25%, 갭: 3C95, 유효 투과성 (µe): 36.20mm, 초기 투자율 (µi): P 36 x 22,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 13 x 7 x 4,
코어 유형: ER, 공차: ±25%, 갭: 3C97, 초기 투자율 (µi): ER 9.5 x 2.5 x 5,
코어 유형: PLT, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): PLT 43 x 28 x 4.1,
코어 유형: U, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): U 46 x 40 x 28,
코어 유형: E, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): E 42 x 21 x 15,
코어 유형: E, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): E 25 x 13 x 7,
코어 유형: ETD, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): ETD 34 x 17 x 11,
코어 유형: ETD, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): ETD 29 x 16 x 10,
코어 유형: E, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): E 42 x 33 x 20,
코어 유형: ROD, 유효 투과성 (µe): 4.00mm, 초기 투자율 (µi): ROD 4 x 25,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
코어 유형: E, 초기 투자율 (µi): E 22 x 6 x 16,
코어 유형: ETD, 갭: 3C94, 초기 투자율 (µi): ETD 34 x 17 x 11,
코어 유형: PLT, 갭: 3C92, 초기 투자율 (µi): PLT 14 x 5 x 1.5,
코어 유형: E, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): E 20 x 10 x 6,
코어 유형: E, 갭: 3F46, 초기 투자율 (µi): E 22 x 6 x 16,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 160nH, 공차: ±3%, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): RM 5,
코어 유형: EFD, 갭: 3F46, 초기 투자율 (µi): EFD 25 x 13 x 9,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 13 x 6 x 6,
코어 유형: ETD, 갭: 3C97, 초기 투자율 (µi): ETD 44 x 22 x 15,
코어 유형: ER, 갭: 3C96, 초기 투자율 (µi): ER 41 x 7.6 x 32,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 20 x 10 x 5,
코어 유형: E, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): E 47 x 20 x 16,
코어 유형: ROD, 갭: 3C90, 유효 투과성 (µe): 5.00mm, 초기 투자율 (µi): ROD 5 x 20,
코어 유형: ETD, 갭: 3C94, 초기 투자율 (µi): ETD 59 x 31 x 22,
코어 유형: ER, 인덕턴스 계수 (Al): 250nH, 공차: ±5%, 갭: 3C95, 초기 투자율 (µi): ER 23 x 3.6 x 13,
코어 유형: EFD, 공차: ±25%, 갭: 3C90, 초기 투자율 (µi): EFD 12 x 6 x 3.5,
코어 유형: E, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): E 30 x 15 x 7,
코어 유형: ETD, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): ETD 29 x 16 x 10,
코어 유형: RM, 공차: ±25%, 갭: 3F36, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: E, 갭: 3F4, 초기 투자율 (µi): E 32 x 6 x 20,
