코어 유형: RM,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 250nH, 공차: ±3%, 갭: N48, 초기 투자율 (µi): RM 5,
코어 유형: RM, 갭: N41, 초기 투자율 (µi): RM 14,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 2.6µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N45, 초기 투자율 (µi): RM 5,
코어 유형: Multi-Hole (2), 인덕턴스 계수 (Al): 2.4µH, 공차: ±30%, 갭: N30,
코어 유형: EP, 인덕턴스 계수 (Al): 350nH, 공차: -20%, +30%, 갭: N92, 초기 투자율 (µi): EP 5,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 7.1µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N87,
코어 유형: RM, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): RM 14,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 5.4µH, 공차: ±25%, 갭: N30, 유효 투과성 (µe): 89.30mm,
코어 유형: EP, 인덕턴스 계수 (Al): 2µH, 공차: -30%, +40%, 갭: T38, 초기 투자율 (µi): EP 5,
코어 유형: U, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): U 93 x 76 x 30,
갭: N95, 유효 투과성 (µe): 9.30mm, 초기 투자율 (µi): P 9 x 5,
코어 유형: P (Pot Core), 갭: M33, 유효 투과성 (µe): 9.40mm, 초기 투자율 (µi): PCH 9.4 x 4.6,
갭: N87, 유효 투과성 (µe): 9.30mm, 초기 투자율 (µi): P 9 x 5,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 5.5µH, 공차: -30%, +40%, 갭: T38, 유효 투과성 (µe): 9.30mm, 초기 투자율 (µi): P 9 x 5,
코어 유형: P (Pot Core), 갭: M33, 유효 투과성 (µe): 3.35mm, 초기 투자율 (µi): P 3.3 x 2.6,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 2.5µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N30, 유효 투과성 (µe): 9.30mm, 초기 투자율 (µi): P 9 x 5,
갭: N45, 유효 투과성 (µe): 9.30mm, 초기 투자율 (µi): P 9 x 5,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 200nH, 공차: -30%, +40%, 갭: M33, 유효 투과성 (µe): 4.65mm, 초기 투자율 (µi): P 4.6 x 4.1,
코어 유형: U, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): U 126 x 91 x 20,
코어 유형: ER, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): ER 9.5 x 5,
코어 유형: ER, 갭: N45, 초기 투자율 (µi): ER 11 x 5,
코어 유형: ER, 인덕턴스 계수 (Al): 100nH, 공차: ±5%, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): ER 9.5 x 5,
코어 유형: ER, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): ER 11 x 5,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 400nH, 공차: ±3%, 갭: N48, 초기 투자율 (µi): RM 6,
코어 유형: ER, 인덕턴스 계수 (Al): 4.5µH, 공차: -30%, +40%, 갭: T38, 초기 투자율 (µi): ER 9.5 x 5,
