갭: N41, 유효 투과성 (µe): 18.40mm, 초기 투자율 (µi): P 18 x 11,
갭: N41, 유효 투과성 (µe): 14.30mm, 초기 투자율 (µi): P 14 x 8,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 500nH, 공차: ±3%, 갭: N48, 유효 투과성 (µe): 18.40mm, 초기 투자율 (µi): P 18 x 11,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 250nH, 공차: ±3%, 갭: N48, 유효 투과성 (µe): 14.30mm, 초기 투자율 (µi): P 14 x 8,
갭: N87, 유효 투과성 (µe): 14.30mm, 초기 투자율 (µi): P 14 x 8,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 100nH, 공차: ±3%, 갭: M33, 유효 투과성 (µe): 18.40mm, 초기 투자율 (µi): P 18 x 11,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 100nH, 공차: ±3%, 갭: M33, 유효 투과성 (µe): 14.30mm, 초기 투자율 (µi): P 14 x 8,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 1.1µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 2.03µH, 공차: ±25%, 갭: N30, 유효 투과성 (µe): 14.40mm,
코어 유형: RM, 갭: N49, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 3.06µH, 공차: ±25%, 갭: T37, 유효 투과성 (µe): 14.40mm,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 3.92µH, 공차: ±25%, 갭: T37, 유효 투과성 (µe): 13.60mm,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 1.7µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N45, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: EPO, 인덕턴스 계수 (Al): 250nH, 공차: ±5%, 갭: T38, 초기 투자율 (µi): EPO 13,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 1.1µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: RM, 갭: N30, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: RM, 갭: N48, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: RM, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 2.6µH, 공차: ±25%, 갭: N30, 유효 투과성 (µe): 13.60mm,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 2.8µH, 공차: -30%, +40%, 갭: T35, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 2.3µH, 공차: ±30%, 갭: T65, 유효 투과성 (µe): 14.00mm, 초기 투자율 (µi): R 14 x 9 x 5,
코어 유형: P (Pot Core), 갭: N22, 유효 투과성 (µe): 14.40mm, 초기 투자율 (µi): P Core Half 14x 7.5,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 16nH, 공차: ±3%, 갭: K1, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: EPO, 인덕턴스 계수 (Al): 6.6µH, 공차: -30%, +40%, 갭: T38, 초기 투자율 (µi): EPO 13,
코어 유형: RM, 갭: N48, 초기 투자율 (µi): RM 4 LP,
코어 유형: RM, 공차: -20%, +30%, 갭: PC200, 초기 투자율 (µi): RM 4,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 3.7µH, 공차: -30%, +40%, 갭: T38, 초기 투자율 (µi): RM 4,
