코어 유형: EFD, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): EFD 20 x 10 x 7,
코어 유형: EP, 갭: N92, 초기 투자율 (µi): EP 5,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 25nH, 공차: ±3%, 갭: K1, 유효 투과성 (µe): 9.30mm, 초기 투자율 (µi): P 9 x 5,
코어 유형: Multi-Hole (2), 인덕턴스 계수 (Al): 1.6µH, 공차: ±30%, 갭: N30,
갭: N30, 유효 투과성 (µe): 18.40mm, 초기 투자율 (µi): P 18 x 11,
코어 유형: PQ, 인덕턴스 계수 (Al): 3.85µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N49, 초기 투자율 (µi): PQ 26 x 20,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 970nH, 공차: -20%, +30%, 갭: M33, 유효 투과성 (µe): 14.30mm, 초기 투자율 (µi): P 14 x 8,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 25nH, 공차: ±3%, 갭: K1, 유효 투과성 (µe): 7.35mm, 초기 투자율 (µi): P 7 x 4,
코어 유형: E, 갭: N27, 초기 투자율 (µi): E 19 x 8 x 5,
코어 유형: ETD, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): ETD 39 x 20 x 13,
갭: M33, 유효 투과성 (µe): 11.30mm, 초기 투자율 (µi): P 11 x 7,
코어 유형: ELP, 공차: ±25%, 갭: N49,
코어 유형: PS, 갭: N22, 유효 투과성 (µe): 68.00mm,
코어 유형: E, 인덕턴스 계수 (Al): 1.05µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): E 16 x 8 x 5,
갭: N41, 유효 투과성 (µe): 18.40mm, 초기 투자율 (µi): P 18 x 11,
코어 유형: E, 갭: N27, 초기 투자율 (µi): E 16 x 8 x 5,
코어 유형: I, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): I 25 x 3 x 15,
코어 유형: EV, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): EV 25 x 13 x 13,
코어 유형: EP, 인덕턴스 계수 (Al): 900nH, 공차: -20%, +30%, 갭: T57, 초기 투자율 (µi): EP 6,
코어 유형: I, 인덕턴스 계수 (Al): 5.25µH, 공차: ±25%, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): I 22 x 2.5 x 16,
코어 유형: Toroid,
코어 유형: E, 갭: N30, 초기 투자율 (µi): E 42 x 21 x 20,
코어 유형: ETD, 갭: N27, 초기 투자율 (µi): ETD 34 x 17 x 11,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 250nH, 공차: ±5%, 갭: N48, 유효 투과성 (µe): 9.30mm, 초기 투자율 (µi): P 9 x 5,
코어 유형: P (Pot Core), 공차: ±3%, 갭: N48, 유효 투과성 (µe): 59.3mm,
초기 투자율 (µi): P 18 × 11,
코어 유형: ETD, 갭: N27, 초기 투자율 (µi): ETD 44 x 22 x 15,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 3.32µH, 공차: ±25%, 갭: T37, 유효 투과성 (µe): 13.60mm,
코어 유형: I, 갭: N49, 초기 투자율 (µi): I 25 x 3 x 15,
갭: N48, 유효 투과성 (µe): 22.00mm, 초기 투자율 (µi): P 22 x 13,
코어 유형: P (Pot Core), 유효 투과성 (µe): 7.35mm, 초기 투자율 (µi): P 7 x 4,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 315nH, 공차: ±3%, 갭: N48, 유효 투과성 (µe): 18.40mm, 초기 투자율 (µi): P 18 x 11,
