코어 유형: ETD, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): ETD 39 x 20 x 13,
코어 유형: E, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): E 16 x 8 x 5,
코어 유형: EFD, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): EFD 15 x 8 x 5,
코어 유형: I, 갭: N92, 초기 투자율 (µi): I 14 x 1.5 x 5,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 2.46µH, 공차: ±25%, 갭: T35, 유효 투과성 (µe): 10.80mm,
코어 유형: ELP, 공차: ±25%, 갭: N87,
코어 유형: E, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): E 80 x 38 x 20,
코어 유형: EQ, 갭: N49, 초기 투자율 (µi): EQ 20 x 6,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 2.66µH, 공차: ±25%, 갭: T37, 유효 투과성 (µe): 10.80mm,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 5.4µH, 공차: ±25%, 갭: T35, 유효 투과성 (µe): 26.60mm,
코어 유형: EFD, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): EFD 20 x 10 x 7,
코어 유형: I, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): I 30 x 3,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 6µH, 공차: ±30%, 갭: T46, 유효 투과성 (µe): 10.80mm,
코어 유형: ER, 인덕턴스 계수 (Al): 1.5µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): ER 14.5 x 6,
코어 유형: RM, 인덕턴스 계수 (Al): 2.4µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): RM 6,
코어 유형: EFD, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): EFD 25 x 13 x 9,
코어 유형: Toroid, 갭: N27,
코어 유형: Multi-Hole (2), 인덕턴스 계수 (Al): 330nH, 공차: ±30%, 갭: K1,
코어 유형: P (Pot Core), 인덕턴스 계수 (Al): 1µH, 공차: -30%, +40%, 갭: N48, 유효 투과성 (µe): 7.35mm, 초기 투자율 (µi): P 7 x 4,
코어 유형: ELP, 갭: N49, 초기 투자율 (µi): ELP 14 x 3.5 x 5,
코어 유형: I, 갭: N49, 초기 투자율 (µi): I 18 x 2 x 10,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 2.2µH, 공차: ±25%, 갭: N30, 유효 투과성 (µe): 13.60mm,
코어 유형: E, 갭: N27, 초기 투자율 (µi): E 20 x 10 x 6,
코어 유형: E, 갭: N30, 초기 투자율 (µi): E 16 x 8 x 5,
코어 유형: I, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): I 22 x 2.5 x 16,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 1.94µH, 공차: ±25%, 갭: N27, 유효 투과성 (µe): 21.20mm,
코어 유형: Toroid,
코어 유형: I, 갭: N92, 초기 투자율 (µi): I 18 x 2 x 10,
코어 유형: I, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): I 14 x 1.5 x 5,
코어 유형: Toroid, 인덕턴스 계수 (Al): 4.36µH, 공차: ±25%, 갭: N30, 유효 투과성 (µe): 35.50mm,
코어 유형: I, 갭: N97, 초기 투자율 (µi): I 22 x 2.5 x 16,
코어 유형: E, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): E 13 x 7 x 4,
갭: N22, 유효 투과성 (µe): 5.60mm,
코어 유형: ER, 인덕턴스 계수 (Al): 1.5µH, 공차: -20%, +30%, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): ER 14.5 x 6,
코어 유형: I, 갭: N87, 초기 투자율 (µi): I 18 x 2 x 10,
